1. materiali in oprema
Osrednji materiali: Cerijev oksidprah s čistostjo večje ali enake 99%, velikost delcev 1-5 μm (groba velikost delcev 3-5 μm za grobo poliranje, velikost drobnih delcev 1-2 μm za fino poliranje)
Pomožni materiali:deionizirana voda, pH nastavitev (NaOH/citronska kislina)
Orodja in oprema: polirni stroj (ročni ali električni), poliuretanska/volna
2. standardni operativni postopki
1. Predobdelava
Čiščenje stekla: razmaščevanje z etanolom/acetonom, ultrazvočno čiščenje, da odstranite mikron - delci velikosti
Priprava tekočine za poliranje: Vmešajte v enakomerno suspenzijo glede na razmerje cerijevega oksida: voda=1: 5-10, prilagodite pH na 9-11 (alkalno okolje pospešuje kemična reakcija)
2. Poliranje
Odpravljanje napak opreme: pritrdite mokro polirno ploščo, nastavite hitrost, 100-300 vrtljajev v minuti za navadno steklo, 50-100 vrtljajev za optično steklo
Nalaganje in poliranje materiala: razprševalna slurry, pritisnite 0,1-0,5MPA, uporabite 8-oblik trajektorije in vsakih 2-5 minut napolnite material
Spremljanje procesov: Opazujte hrapavost z mikroskopom (Target RA<1μm), and detect the surface error with interferometer (PV<λ>
3. Post - obdelava
Čiščenje: sperite z deionizirano vodo → obrišite z izopropilnim alkoholom → suho z vročim zrakom pod 60 stopinj
Pregled kakovosti: preskus prepustnosti svetlobe (normalno steklo, večje ali enako 90%), UV svetloba za površinske napake
3. Pogoste težave
Površinsko meglenje: gnoj je preveč koncentrirana / poliranje je pretirano, razredčimo gnojno in skrajšajte čas fine poliranja
Poglobijoči se praske: nečistoče v polirni ploščici / neenakomernem tlaku, zamenjajte ploščico za poliranje in umerite tlačni sistem
Nizka učinkovitost: odstopanje / temperatura pH je prenizka, prilagodite pH na 10 in predhodno segrejte v 25 stopinj